GTEM小室是常用試驗(yàn)儀器信號(hào)發(fā)生器（注意其帶寬，要求調(diào)幅功能，能自動(dòng)掃描，在掃描點(diǎn)上的留駐時(shí)間可控，信號(hào)輸出幅度可控）；功率放大器（注意其帶寬，另外輸出功率應(yīng)與試驗(yàn)的場(chǎng)強(qiáng)相匹配）；天線（輻射天線）；場(chǎng)強(qiáng)測(cè)試探頭；場(chǎng)強(qiáng)測(cè)試與記錄設(shè)備。為完成自動(dòng)測(cè)量，還要增加計(jì)算機(jī)相應(yīng)的控制軟件。

　　GTEM小室轉(zhuǎn)臺(tái)影響分析及仿真：

　　在使用GTEM小室進(jìn)行測(cè)試的過程中，主要的測(cè)試方法都是通過改變輻射體的擺放方式引起GTEM小室端口輸出功率的變化，通過不同理論公式得到相應(yīng)的反演方法。無論是何種反演方法都必然涉及到如何準(zhǔn)確的實(shí)現(xiàn)輻射體擺放方式的問題。

　　傳統(tǒng)的電波暗室中使用的平面轉(zhuǎn)臺(tái)并不能*GTEM小室測(cè)試中對(duì)輻射體進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的要求，一般都需采用相應(yīng)可以支持3D旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)臺(tái)。而在實(shí)現(xiàn)3D旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，轉(zhuǎn)臺(tái)的部件會(huì)不可避免的對(duì)輻射體產(chǎn)生遮擋或者覆蓋。由于GTEM小室內(nèi)部結(jié)構(gòu)造成其內(nèi)部電磁場(chǎng)環(huán)境比較復(fù)雜，較難通過理論上的電磁分析出轉(zhuǎn)臺(tái)的影響大小，而合理的仿真和合適的測(cè)試實(shí)驗(yàn)分析室較好的研究方法。

　　因?yàn)檗D(zhuǎn)臺(tái)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不適合整體分析，故通過分別仿真各個(gè)方向的情況來研究GTEM小室內(nèi)轉(zhuǎn)臺(tái)對(duì)輻射體的影響。具體仿真方法如下：

　　1.選用對(duì)稱偶極天線作為輻射體；

　　2.選取以下材料進(jìn)行仿真：聚乙烯（現(xiàn)在制作轉(zhuǎn)臺(tái)常用材料為聚四氟乙烯），銅（用來對(duì)比）；

　　3.介質(zhì)塊距輻射體中心的距離分為5.5cm和10.5cm；

　　4.將特定材料的介質(zhì)塊置于輻射體的周圍6個(gè)方位上，研究各種情況下GTEM小室前端口輸出功率，分別與輻射體周圍無介質(zhì)塊時(shí)GTEM小室端口輸出功率進(jìn)行比較即可。